全球半导体供应链的关键一环、ASML独家光学供应商德国蔡司集团（Zeiss）高管表示，中国在开发尖端芯片制造设备方面大约落后15年——”合理假设”是北京需要15年才能研发出极紫外（EUV）光刻机。
蔡司半导体部门负责人Frank Rohmund在彭博电视上发表上述言论，同时承认中国的进展难以精确量化。芯片制造技术是美国阻止中国获取顶级AI芯片努力的核心目标，也是全球两大经济体竞逐尖端AI模型的关键战场。
目前，美国禁止ASML向中国出口其最先进的光刻机，而ASML是全球唯一的EUV设备制造商，蔡司则是其EUV光学系统的独家供应商。EUV技术对于生产英伟达AI加速器所用的最先进芯片至关重要。与此同时，北京正大举投入资金发展本土半导体产业，以求自主可控。
Rohmund的评估与瑞银分析师本周的观点相呼应——由Francois-Xavier Bouvignies领衔的瑞银团队认为，中国距研发出国产EUV技术可能至少还有10年。
中国是ASML上一代深紫外（DUV）光刻机的最大市场之一，美国还对ASML部分更先进的浸润式DUV机型要求出口许可。对于可能将出口管制扩大至成熟制程DUV设备的传闻，Rohmund直言这对业务不利：”我们不相信这些出口限制有正面作用，因为它反而加速了中国的创新。”
他指出，北京在这类技术上已深耕数十年，近期有关中国取得进展的报道”并不令人意外”，现在需要观察这些设备的实际能力。”但我们仍然大幅领先。”据The Information今年7月报道，一家总部位于上海的公司已在生产浸润式DUV光刻设备。
蔡司称其组件用于生产全球约80%的芯片。为应对AI驱动的需求，蔡司正扩建德国奥伯科亨总部产能，并另建新厂。ASML于2017年以10亿欧元入股蔡司半导体部门。这场围绕光刻机的攻防，将持续定义全球半导体格局与新加坡等半导体枢纽的产业走向。
来源：The Business Times / Bloomberg